Fornace di deposizione di vapore chimico
La principale tecnologia utilizzata per preparare pellicole sottili solide ad alta purezza e ad alte prestazioni.
- introduzione al prodotto
Fornace di deposizione di vapore chimico
La tecnologia principale utilizzata per preparare film sottili solidi ad alta purezza e ad alte prestazioni . introduce uno o più atomi di sorgente di vapore o molecole in una cavità, sottoposti a reazioni chimiche sotto energia esterna e forma a valle e vari moduli per le vari moduli per il substrato di una superficie del substrato . Film-forming .
Principalmente applicato in campi come circuiti integrati, illuminazione a semiconduttore, sistemi microelettromeccanici, semiconduttori di potenza, semiconduttori composti e nuovi fotovoltaici di energia
Utilizzato per soddisfare i requisiti ambientali durante il processo di crescita di CVD TAC .
Il sistema di controllo è controllato da PLC, con un controllo accurato e un alto grado di automazione . può ottenere una commutazione libera da disturbi automatici/manuali completi, funzionamento semplice e affidabile, risparmio energetico e nessun inquinamento ambientale .
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